Fizikalno naparjanje: Razlika med redakcijama

Izbrisana vsebina Dodana vsebina
m Yerpo je premaknil stran PVD na Fizikalno naparjanje: slovenski izraz po http://egradivo.ecnm.si/POV/pvd_prevleka.html
m za silo slog
Vrstica 1:
'''Fizikalno naparjanje''' (znano tudi pod angleškim izrazom ''Physical vapor deposition'', kratica '''PVD''') je postopek fizikalnega nanašanja iz parne faze za izdelavo trdih prevlek in tankih filmov. Imenujemo ga tudi ionsko prekrivanje oz. platenje. PVD postopek poteka pri 450-500 °C, zato je primeren za prekrivaje rezalnih orodij iz hitroreznega [[jeklo|jekla]], ki naj vsebuje 5-10 % [[kobalt|Co]], orodnih jekel za delo v hladnem in za delo v vročem stanju ter karbidnih trdin K10 in P20 do P40. [[Titan]] izparevamo s pomočjo nizkonapetostnega električnega obloka iz žareče katode. Proces lahko opišemo kot visokovakuumsko reaktivno naparjanje ioniziranih kovinskih delcev s pomočjo [[plazma|plazme]] (z bombardiranjem substrata - orodja). Mikrostruktura TiN je drobnozrnata z velikostjo zrn pod 0,08 µm. Debelina prevleke znaša 2,5-5 µm.
{{slog}}
'''PVD POSTOPEK NANAŠANJA TRDIH PREVLEK'''
 
{{tech-stub}}
PVD je postopek fizikalnega nanašanja iz parne faze za izdelavo trdih prevlek. Imenujemo ga tudi ionsko prekrivanje oz. platenje. PVD postopek poteka pri 450-500 °C, zato je primeren za prekrivaje rezalnih orodij iz hitroreznega jekla, ki naj vsebuje 5-10 % Co, orodnih jekel za delo v hladnem in za delo v vročem stanju ter karbidnih trdin K10 in P20 do P40. Titan izparevamo s pomočjo nizkonapetostnega električnega obloka iz žareče katode. Proces lahko opišemo kot visokovakuumsko reaktivno naparjanje ioniziranih kovinskih delcev s pomočjo plazme (z bombardiranjem substrata - orodja). Mikrostruktura TiN je drobnozrnata z velikostjo zrn pod 0,08 µm. Debelina prevleke znaša 2,5-5 µm.
[[Kategorija:TehnologijaProizvodni postopki]]
 
[[Kategorija:Tehnologija]]