Fizikalno naparjanje: Razlika med redakcijama

PVD je postopek fizikalnega nanašanja iz parne faze za izdelavo trdih prevlek. Imenujemo ga tudi ionsko prekrivanje oz. platenje. PVD postopek poteka pri 450-500 °C, zato je primeren za prekrivaje rezalnih orodij iz hitroreznega jekla, ki naj vsebuje 5-10 % Co, orodnih jekel za delo v hladnem in za delo v vročem stanju ter karbidnih trdin K10 in P20 do P40. Titan izparevamo s pomočjo nizkonapetostnega električnega obloka iz žareče katode. Proces lahko opišemo lahko kot vakuumskovisokovakuumsko reaktivno naparjanje ioniziranih kovinskih ionovdelcev vs visokovakuumskipomočjo plazmiplazme (z ionskim bombardiranjem substrata ( podlage,- orodja). Mikrostruktura TiN je drobnozrnata z velikostjo zrn pod 0,08 µm. Debelina prevleke znaša 2,5-5 µm.