Fizikalno naparjanje: Razlika med redakcijama

Izbrisana vsebina Dodana vsebina
Klemen Kocjancic (pogovor | prispevki)
{{slog}}
Klemen Kocjancic (pogovor | prispevki)
m Hitro dodajanje kategorije "Tehnologija" (z uporabo orodja HotCat)
Vrstica 3:
 
PVD je postopek fizikalnega nanašanja iz parne faze za izdelavo trdih prevlek. Imenujemo ga tudi ionsko prekrivanje oz. platenje. PVD postopek poteka pri 450-500 ºC, zato je primeren za prekrivaje rezalnih orodij iz hitroreznega jekla, ki naj vsebuje 5-10% Co, orodnih jekel za delo v hladnem in za delo v vročem stanju ter karbidnih trdin K10 in P20 do P40. Titan izparevamo s pomočjo nizkonapetostnega električnega obloka iz žareče katode. Proces opišemo lahko kot vakuumsko reaktivno naparjanje ioniziranih kovinskih ionov v visokovakuumski plazmi z ionskim bombardiranjem substrata ( podlage, orodja). Mikrostruktura TiN je drobnozrnata z velikostjo zrn pod 0,08 µm. Debelina prevleke znaša 2,5-5 µm.
 
[[Kategorija:Tehnologija]]